ASML回应荷兰半导体出口管制新规：涉及最先进的DUV光刻机

据证券时报报道，3月9日上午，荷兰口罩对准器巨头ASML (ASML)发布声明称ASML预计在出口DUV设备前申请许可。

同时公司还表示“新出口管制措施完全不是针对浸润光刻系统，相对较低的高级浸润光刻系统可以很好地满足工艺成熟的客户的需求。”

此前，荷兰方面在3月8日表示，计划对半导体技术出口实施新的管制。信中说，这些管制措施将在今年夏天之前实施。

ASML语句如下:

荷兰* *今天发布了即将出口半导体设备管制措施的进一步信息。这些新的出路管制措施专注于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润光刻系统。

由于这些即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证来运输最先进的DUV 浸润系统。

这些管制措施需要一段时间才能立法并生效。

根据今天的公告、我们对荷兰许可政策的预期以及当前的市场形势，我们预计这些管制措施不会对我们公布的2023年财务前景和去年11月投资者日公布的长期前景产生重大影响。

需要特别指出的是，新的exit 管制措施并不针对所有浸润光刻系统，只针对所谓的“最高级”浸润光刻系统。虽然我们还没有得到“最先进”的确切定义，但我们将其解释为资本市场日会议上定义的“关键浸润光刻系统”，即TWINSCANNXT:2000i以及随后的浸润光刻系统。

另外要指出的是，先进程度相对较低的浸润光刻系统，可以满足工艺成熟的客户的需求。最后，对ASML的长期展望是基于长期的全球需求和技术趋势，而不是特定地区的预期。

自2019年起，限制ASML的EUV光刻。

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